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激光原理与技术6

时间:2025-10-06 08:16:01 其他范文 收藏本文 下载本文

下面是小编整理的激光原理与技术6,本文共8篇,希望能帮助到大家!

篇1:激光原理与技术6

西安电子科技大学 技术物理学院 刘继芳

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

?

――开腔模场分布的波动光学分析 研究方法采用波动光学理论

光的衍射概念和计算方法

?

采用腔型

开腔的典型代表:对称共焦腔

R1=L

?

R2=L

F L

一、对称共焦腔及其意义

实共焦腔: R1 ? 0, R2 ? 0 对称共焦腔:R1 ? R2 ? L

?

R1 R2 ? ? L 两腔镜焦点重合且在腔内 2 2 g1 ? 0, g2 ? 0, g1g2 ? 0 临界腔!

?

无几何偏折损耗!(衍射损耗仍存在)

意义:

? ?

惟一可以给出自再现模解析解的腔型

其他腔型模的解可等效为共焦腔处理

F L

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

二、Fox and Li开腔模概念(1961)

平面光波在平行平面腔中的来回反射,不计几何偏折损耗(大NF 腔) 时,等价于通过周期分布“孔拦”的传输。用数值迭代方法 计 算证实:自再现模存在。(3000次以后不再发生变化)

等价

L L L

?

u1 u2 u3 uq uq+1

uq ?1 ? ?uq ?复常数

开腔中的自再现模场分布=衍射为零时的自洽场分布

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

三、自再现模的本征方程(对称共焦腔)

1. 求自再现模本征方程的物理基础 ――菲涅耳―基尔霍夫方程

已知衍射屏xOy上场分布u(x,y),根据惠更斯―菲涅耳原理:

e ?ikr 1 ? cos ? u ?( x ?, y ?) ? ?? u ( x, y ) dxdy S ? r 2 i

子波强度 球面波倾斜因子

r:pp?两点间距,

1 ? cos? 倾斜因子, 2

x r

x? p?

?

?:r与腔轴之间夹角

p?

y

?

y?

z

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析 2. 再现模本征方程

若谐振腔满足:

?

L>>a,a >>?,有: cos ? ? 1 i e ?ikr u ?( x ?, y ?) ? ?? u ( x, y ) dxdy S ? L

1 ? cos ? ?1 2

?

自洽条件:u?( x?, y?) ? ?u ( x, y )

S

则有:

?u( x?, y?) ? ?? u( x, y) K ( x, y; x?, y?)dxdy

x

?

只有对称共焦腔:当xOy面在M1处,当x?O?y?面在M2处满足! x?

F L z y?

y

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

分析如下:

?

这是关于u的积分方程,?求解:u(x,y)[ u?(x?,y?) ]横 向场分布的本征方程。 其解u为本征函数(横模),?为本征值。 本征方程积分核 K ( x, y; x?, y?) ? e?ikr ,为复对称核。 腔结构对称,积分核对称! ?L

i

? ?

积分方程理论:(1) 对称核:本征函数一定是正交归一函数系 腔内任意场分布=?ti本征函数i (2) 复核:本征函数、本征值一定是复值

?

本征函数u正交归一化的函数系,加下标: u? um 。 um对应本征值? ? ?m

§2.3 对称共焦腔的自再现模

行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

? 本征方程可改写为: 因此:

? m u m ( x?, y ?) ? ?? u m ( x, y) K ( x, y; x?, y ?)dxdy m ? 0,1,2?

S

?

um和?m为复数,故有:

um ( x, y) ? um ( x, y) e

?

m

i? m ( x , y )

? m ? ? m ei? 意义?

m

?

? ? ?um? ? m e i? u m ∵ um

?

可见:?m对本征模在腔内渡越时产生两方面影响: (1) ??m??引起振幅变化:损耗 ? (2) e i?m?产生一个附加相移

?

自再现模平均单程损耗因子:

?D ?

? um ? um um

2

2

2

?1? ?m

2

不同横模损耗不同!

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

?

自再现模腔内单程渡越相移:

? ? ?k m L ? Δ? m ?? m ? arg( u?) ? arg( u) ? arg(? m ) ? ? m

几何相移

?

附加相移

对称共焦腔的驻波条件(频率条件):

2π? m ? ?? m ? ?k m L ? Δ? m ? ?qπ ? k ? ? m ?

c ? Δ?m ? ?m ? ?q ? ? 2L ? π ?

纵模指数

?

c

?

横模指数

可见:对于横模指数为m的横模,可以有不同的振荡频率! 记为TEMm(n)q模

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

四、对称共焦腔自再现模在镜面上场分布

1. 自再现模本征方程解

i ?ikr K ( x, y; x?, y?) ? e ?L

r―关键 ―

对称共焦腔最简单

任意腔可等效为对称共焦腔

已知M1面(球面)上场分布u,求M2面上场分布! 相应间距: r ? P ? 1P 1 ? PP? ? ? 1 ? ?2 由?OO?P和?OO?P? : x O P? P1

1

( L ? ?1 )2 ? L2 ? ( x 2 ? y 2 )

?2 x? ? P? P 1

O? z L

( L ? ?2 )2 ? L2 ? ( x?2 ? y?2 )

?1 ?

x ?y 2L

2

2

?2 ?

x? ? y? 2L

2

2

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

可求得r: r ? [( x ? x?)2 ? ( y ? y?)2 ? L2 ]1 / 2 ? ?1 ? ?2

? ( x ? x?) ( y ? y?) ? ? L ?1 ? ? ? 2 2 L L ? ?

2

2 1/ 2

? ?1 ? ?2

? ( x ? x?)2 ? ( y ? y?)2 ? ? L ?1 ? ? ? ?1 ? ?2 2 2L ? ? x 2 ? y 2 x ? 2 ? y ? 2 xx ? ? yy ? ? L? ? ? ? ?1 ? ?2 2L 2L L

xx? ? yy? ? L? L

代入本征方程有: ? mum ( x?, y?) ?

x?2 ? y?2 x2 ? y2 ?2 ? ?1 ? 2L 2L

i ?ikL e ?? um ( x, y )e S ?L

ik

xx?? yy? L

dxdy

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

? mum ( x?, y?) ? 本征方程也可改写为:

x? 其中: f x ? , ?L

i ?ikL i2π( f x? f y) e ?? um ( x, y )e x y dxdy S ?L y? fy ? ?L

可见:um ( x, y) ? um ( x?, y?) 构成傅里叶变换对

? mum ( x?, y?) ? cFT?um ( x, y)? 物场与频谱场分布自洽

① 若um(x?,y?)可分离变量?

求解大为简化

um ( x?, y?) ? umn ( x?, y?) ? um ( x?)un ( y?)

? m ? ? mn ? ? m? n

② 若S有限大――本征方程可精确求解; 若S很大――本征方程需近似求解。

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

③ 实际上,S的大小并不由腔镜镜面尺寸决定,很多情况下是由腔 内增益介质横截面尺寸决定(尺寸很小) ④ 腔镜横截面(介质横截面)形状不同,分离变量方法不同。

方形――直角坐标系下分离变量

圆形――极坐标系下分离变量

2. 方镜对称共焦腔镜面上场分布―厄米高斯函数

直角坐标系下分离变量 u mn ( x, y) ? u m ( x)u n ( y) y

2a 2a x 腔镜反射面在xOy面投影 腔镜反射面形状

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

分离变量后的本征方程:

ik ( ? ? ) ik ? ? ? m? n u m ( x )u n ( y ) ? e ? ? u m ( x)u n ( y )e L L dxdy ? a 2 πL 2 a 2 令:X ? x 2πN / a, Y ? y 2πN / a N ? a k /( 2πL) ? 菲涅耳数 ?L 2 πN i ?ikL i ( XX ? ?YY ? ) ? ? ? ? U ( X ) U ( Y ) ? e U ( X ) U ( Y ) e dXdY 有: m n m n n ? ?? 2 πN 2π m ?ikL a xx? yy ?

令: 则:

? m ? n ? ? m? n /ie ?ikL

1 U m ( X ?) ? 2π? m

?

2 πN

? 2 πN

U m ( X )eiXX ?dX

U n (Y ?) ?

1 2π? n

?

2 πN

? 2 πN

U n (Y )eiYY ?dY

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

当N较大时,积分方程有如下解(用近似解代替精确解):

Um ( X ) ? e

? X2 2

Hm ( X )

U n (Y ) ? e

?

Y2 2

H n (Y )

其中:Hm、Hn为厄米多项式:

H0 (? ) ? 1 H2 (? ) ? 4? 2 ? 2 H4 (? ) ? 16? 4 ? 48? 2 ? 12

H1 (? ) ? 2?

H3 (? ) ? 8? 3 ? 12?

d m ?? 2 H m (? ) ? (?1) e ? m e d?

m ?2

(?1) k m! ?? (2? ) m ? 2 k k ? 0 k!( m ? 2k )!

?m? ?2? ? ?

m ?m? ? 整数部分 ?2? 2 ? ?

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

2 2 2 2 2 X x π x a x 2 由: ? 2 ? 2πN? 2 ? 2π ? x ? 2 2 2a ?L ? L 2a w0s ?L 其中: w0 s ?

π

得: X ?

2

x w0s

Y? 2 第一文库网 y w0s

? x2 ? y2

2 w0 s

? x ? ? x ? 镜面上场分布: u ( x, y ) ? CmnH m ? 2 ? ? ? Hn ? 2 e ? ? ? w0s ? ? w0s ? ?

? mn ? e

π ? i[ kL ? ( m ? n ?1) ] 2

m=0,1,2? n=0,1,2?

镜面上场分布为厄米高斯函数(分布)!相应光束称为厄米高斯光束

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

3. 圆镜对称共焦腔镜面上场分布―拉盖尔高斯函数

取极坐标系 (?,?,z)

分离变量

umn ( ? ,? ) ? um (? )un ( ? )

? ?

得镜面上场分布: umn ( ? ,? ) ? Cmn ? ? ? 2 其中

:w0 s ?

?L

π

? ? ? ? ?e L 2 n? 2 ? ? w0s ? ? w0s ?

2

? ? m?

?

?2

2 w0 s

e?im?

, Lm 为缔合拉盖尔多项式 n (? ) m=0,1,2? n=0,1,2?

? mn ? e

π ?i[ kL ? ( m ? 2 n ?1) ] 2

镜面上场分布为拉盖尔高斯函数(分布)!相应光束称为拉盖尔高斯光束

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

缔合拉盖尔多项式: Lm 0 (? ) ? 1

Lm 1 (? ) ? 1 ? m ? ?

L (? ) ? ?

m n k ?0

n

1 Lm ( ? ) ? [(1 ? m)( 2 ? m) ? 2(2 ? m)? ? ? 2 ] 2 2 (n ? m)!(?? )k

(m ? k )! k!(n ? k )! n ? 0,1,2?

综合(方和圆)讨论:

(1) 方:? mn ? e

π ?i[ kL ? ( m ? n ?1) ] 2

圆: ? mn ? e

π ?i[ kL ? ( m ? 2 n ?1) ] 2

均为纯虚数!?mn描述损耗,说明衍射损耗等于零!

相当于菲涅耳数NF??,亦即镜面尺寸a??的结果。

§2.3 对称共焦腔的'自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

(2) 镜面上场分布相位与x,y无关。 ――镜面是本征模场分布的等相面! (3) 用TEMmnq表示本征模。 m ―x ? 方向场零点数目 n ― y ? 方向场零点数目

m, n―横模指数 q ― 纵模指数

q ― z 方向半波长数目

(4) m=0,n=0的本征模称为基模,记为TEM00。 方: u00 ( x, y) ? C00e

? ? ? ?

? x2 ? y2

2 w0s

圆: ?e u00 ( ? ,? ) ? C00

?

?2

2 w0s

损耗最低,起振容易。称为优势振荡模

振幅分布为高斯函数――基模高斯光束 1 2 2 当 x 2 ? y 2 ? w0s 或 ? 2 ? w0s 时,振幅减小为中心的

e

圆形光斑,中心最亮,向外逐渐减弱。w0s称为光斑半径

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

(5) 镜面光斑图样

? x2 ? y2

2 w0s

TEM00模

m=0,n=0

2 x 2 ? y 2 ? ? 2 ? w0 s

方: u00 ( x, y) ? C00e y

?e 圆:u00 ( ? ,? ) ? C00

?

?2

2 w0s

?

x

?

u00 ( x, y) ? u00 (0,0) / e

w0s ?

?L

π

y

x 镜面上00模光斑半径

?

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析 TEM10模 方:

u10 ( x, y) ? C10 xe

? x ?y

2 w0s 2 2

圆:

? ?e u10 ( ? ,? ) ? C10

?

?2

2 w0s

cos?

m=1,n=0

x方向:1根零线 y方向:无零线 y

?方向:1根零线 ?方向:无零线 ? ?

x

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析 TEM01模

方: 圆:

? x ?y

2 w0s 2 2

u 01 ( x, y) ? C01 ye

m=0,n=1

? (1 ? 2 u 01 ( ? ,? ) ? C01

?

w

2 2 0s

?

?2

2 w0s

)e

x方向:无零线 y方向:1根零线 y

?方向:无零线 ?方向: 1根零线 ? ?

x

与TEM10模相同

与TEM10模不同

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

(6) 共振(纵模)频率 方:? mn ?

e

π ?i[ kL ? ( m ? n ?1) ] 2 π ?i[ kL ? ( m ? 2 n ?1) ] 2

圆:? mn ? e

π 2

?? mn ? ?[kL ? (m ? n ? 1) ]

?? mn ? ?[kL ? (m ? 2n ? 1) ]

k? 2 π? c

π 2

共振(驻波)条件:?? mn ? ?qπ

π ? [kL ? (m ? n ? 1) ] ? ?qπ 2

? mnq ?

c [q ? (m ? n ? 1) / 2] 2L

π ? [kL ? (m ? 2n ? 1) ] ? ?qπ 2 c ? mnq ? [q ? (m ? 2n ? 1) / 2] 2L

纵模频率间隔: Δ? q ? ? q ?1 ?? q ?

c 2L

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

五、腔内(外)行波场

我们得到了对称共焦腔镜面上的场分布。实际上,上述光波场 在腔内(外)是传播的!腔内(外)任一参考面上的光波场?

由镜面上的场分布+菲涅耳―基尔霍夫积分求出任意z面上的场 分布,即为行波场。 umn(x,y) umn(x,y,z) z

L RP TEMmn: m?x,? n?y,?

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

1. 方型镜

umn ( x, y, z ) ?

?2

1

m?n

m! n!

?

1/ 2

? 2x ? ? 2 y ? w0 ? ? ? Hm ? ?Hn ? ? w ( z ) w ( z ) ?L w( z ) ? ? ? ? 2

2

?e

x2 ? y2 ? ik 2R( z)

?e

?

x2 ? y2 w (z)

?e

? z? ? i ? kz ? ( m ? n ?1) tan ?1 ? f? ?

基模:TEM00(m=0, n=0)厄米―高斯光束

u00 ( x, y, z ) ?

w0 ?e ?L w( z ) ?

2

2

x2 ? y2 ? ik 2R( z)

?e

?

x2 ? y2 w (z)

2

?e

? ?1 z ? ?i ? ? kz ? tan f ? ? ? ?

w0 ? ? ?e ?L w( z )

? ik

x2 ? y2 ~( z) 2q

?e

? ?1 z ? ?i ? ? kz ? tan f ? ? ? ?

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

其中:

1 1 ? ――光束复曲率 ? ? i 2 ~ q ( z ) R( z ) πw ( z )

2 R L πw0 ――光束共焦参数 f ? ? ? 2 2 ?

w0 ?

?f

π

?

?L

?

w0s 2

条件:

f2 R( z ) ? z ? ――光束等相面曲率半径 z 1/ 2 ? ? z ?2 ? w( z ) ? w0 ?1 ? ? ?f? ? ? ――光斑半径 ? ?L/2 ? ? ? ? ?

? O

(1) z坐标原点选在对称共焦腔中心处

L

L/2 z

(2) 行波场相位参考点也选在腔中心处。即z=0,?=0

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

2. 圆型镜

m ?? TEMmn: n ??

――开腔模场分布的波动光学分析

m

umn (? , ? , z ) ? u0 ?e

w0 ? ? ? m? ? ? ? ? 2 Ln ? 2 2 ? e ? ? ? ? w( z ) ? w( z ) ? ? w ( z) ?

2

?

?2

w 2 ( z ) ? im?

e

? ? ? ?2 ? ? ? ? ( m ? 2 n ?1) tan ?1 z ? ?i ? k ? z ? ? f? ? ? ? 2R( z) ? ?

w0 ? ? ? m? ? ? ? ? ? u0 2 Ln ? 2 2 ? e ? ? ? ? w( z ) ? w( z ) ? ? w ( z) ?

2

m

? z? ?2 ? i ? kz ? ( m ? 2 n ?1) tan ?1 ? ? ik ~ f? 2 q ( z ) ? im? ?

e

e

其中:~

1 , f , w0 , w( z ), R( z ) 与

方型镜意义相同。 q ( z)

基模:TEM00(m=0, n=0)拉盖尔―高斯光束

u 00 (? , ? , z ) ? u 0

w0 e w( z )

? ik ~ 2q ( z )

?2

e

? ?1 z ? ?i ? ? kz ? tan f ? ? ? ?

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

五、基模高斯光束特性

1. 基模高斯光束参量

基模光束可统一表示为: E ( x, y, z ) ? E0 ( z )e

等相面为球面,所以为球面波。 描述光束的基本参量为: ~

1 1 ? ? ?i 2 ―复曲率 q ( z ) R( z ) πw ( z )

r2 ? ik ~ 2q ( z )

e

? ?1 z ? ?i ? ? kz ? tan f ? ? ? ?

w0 ?

?f

π

f2 R( z ) ? z ? z ? ? w( z ) ? w0 ?1 ? ? ? ? ? ? 2 πw0 f ?

―――等相面曲率半径

z f ? ? ? ?

2 1/ 2

? ? ―光斑半径 ? ?

?

―――光束共焦参数

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析 2. 振幅特性

z处基模光束振幅为:

? r2 2 w2 ( z )

A( z ) ? E0 ( z )e

A[r ? w( z )] ? E0 ( z )/e w(z)―z处光斑半径

? ? z ?2 ? 由 w( z ) ? w0 ?1 ? ? ? ? ?f? ? ? ? ? ? ?

1/ 2

w2 ( z ) z 2 ? 2 ? 1 关于z的双曲方程 2 w0 f

可见:w(z)随z变化,并且有: w(0)=w0取最小值―束腰 束腰半径:w0 ?

?f

π

w0

O L

w(z) w0s z

w0s ? 2w0

z ? L/2? f

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析 3. 方向特性―发散角

xOz面或yOz为双曲线:

?00

L

z

双曲线的两渐近线的夹角2?00称为高斯光束的远场发散角 由: ? 00 ? lim dw( z ) ? ? z ?? π w0 dz

得: 2? 00 ?

2? πw0

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析 4. 变心特性―变心球面波

相位因子: ? 2f

?1

?

O

?

e

? r2 ? ?ik ? z ? ? ? 2R( z) ? ? ?

球面波

?e

i tan

z f

球心

z

超前的附加相位因子

f2 由: R( z ) ? z ? z

( R ( z ) ? z!不同于球心不变的球面波了) R(z)

2f

可见: z=0,R(0)??,平面波 z=f,R(f)=2f=L=R,球面波(心在另一镜处) z>L/2,R(z)>L=R,球面波(心向原点靠近) z?? ,R(0)??,球面波(心在原点处)

?f

f ?2f

z

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

5. 附加相移

根据相位因子: 附加相移:

e

? r2 ? ?ik ? z ? ? 2 R ( z ) ? ? ? ?

?e

i tan ?1

z f

z f 可见: z=0,tan?10=0,附加相移??=0 Δ? ? tan ?1

z=f=R/2,tan?11=?/4,附加相移??=?/4 z=?f=? R/2,tan?1?1 = ??/4,附加相移??= ??/4 从镜1到镜2一个单程相移?/2!

tan?1z/f ?/2 ?/4

f

z

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

6. 谐振频率

单程相移(?2=r2=0):

? ?1 z2 ?1 z1 ? ?

k ( z2 ? z1 ) ? (m ? n ? 1)? tan ? tan ? πq ? ? ? π f πf ? ? L 4 ? 4 z ?1 2 ?1 z1 ? ? k ( z2 ? z1 ) ? (m ? 2n ? 1)? tan ? tan ? πq ? ? f f ? ?

z1

O L

?

z z2

? mnq ?

c ? 1 ? q ? ( m ? n ? 1 ) ? 方镜 2L ? 2 ? ?

? mnq ?

c ? 1 ? 圆镜 q ? ( m ? 2 n ? 1 ) ? 2L ? 2 ? ?

? 00q ?

c ? 1? q ? 2L ? 2? ? ?

Δ? q ?

c 2L

Δ? m ? Δ? n ? 4

c 2L

§2.3 对称共焦腔的自再现模行波场

――开腔模场分布的波动光学分析

6. 模体积

基模体积(m=n=0):

V00 ? 1 1 ? ?L ? 2 ? Lπw0 Lπ ? s? ? 2 2 ? π ? ?

2

w0s

L2? ? 2 高阶模体积:

Vmn ?

L

1 2 2 Lπwm w s ns 2 1 2 ? Lπ (2m ? 1)( 2n ? 1) w0 s 2

wms ? 2m ? 1w0s

wns ? 2n ? 1w0s

? (2m ? 1)(2n ? 1) ? V00

篇2:激光切割技术现状与发展趋势论文

激光切割技术现状与发展趋势论文

激光切割技术现状与发展趋势论文【1】

摘要:介绍了激光切割技术的现状及发展趋势,提出了该技术的发展日标及需要解决的技术问题。

关键词:激光切割机 现状 发展

引言

激光切割是激光加工行业中最重要的一项应用技术,也是激光加工中应用最早、使用最多的加工方法。

它占整个激光加工业的70%以上。

激光切割与其他切割方法相比,最大区别是它具有高速、高精度和高适应性的特点。

同时还具有割缝细、热影响区小、切割面质量好、切割时无噪声、切缝边缘垂直度好、切边光滑、切割过程容易实现自动化控制等优点。

可切割碳钢、不锈钢、合金钢、木材、塑料、橡胶、布、石英、陶瓷、玻璃、复合材料等。

激光切割板材时,不需要模具,可以替代一些需要采用复杂大型模具的冲切加工方法,能大大缩短生产周期和降低成本。

因此,目前激光切割已广泛地应用于汽车、机车车辆制造、航空、化工、轻工、电器与电子、石油和冶金等工业部门中。

近年来,激光切割技术发展很快,国际上每年都以15%一20%的速度增长。

一、概述国内外激光切割应用现状

激光切割是激光加工中应用最早、使用最多的加工方法。

以日本为例,目前已拥有CO2激光切割机2万多台,约占全球激光加工机总量的1/3,其中80%为激光切割设备。

据统计,自1995年以来,年生产C02激光切割机已超过500台左右,其中YAG激光切割机100多台。

而我国至今却只有600多台套激光切割机在使用中。

因此,在我国,激光切割技术的推广和应用潜力很大。

随着我国国民经济的飞速发展,许多传统产业需要改造,许多钣金加工领域有待开发,许多工业城市也需要建立激光加工中心。

二、激光切割技术发展趋势及特点

1.高速、高精度激光切割机

由于大功率激光器光束模式的改善及32位微机的应用,为激光切割设备的高速、高精度创造了有利条件。

目前国际先进水平的激光切割机的切割速度已达到20m/min以上,两轴快速运动可达250m/min,加速度最大为109,定位精度达0.01mm/500mm。

采用高速、高精度的激光切割机,在切割板厚lmm,直径10mm的小圆时,每分钟能切割500多个,而其直径误差不大于50mm,实现了真正意义上的飞行切割技术。

2. 厚板切割和大尺寸工件切割的大型激光切割机

如上所述,随着可用于激光切割激光器功率的增大,激光切割正从轻工业薄板的钣金加工向着重工业厚板切割方向发展。

6kW大功率激光器,能切割低碳钢板最大厚度达32mm的大尺寸工件。

由于厚板激光切割技术的不断改进,目前已经尝试使用3kW的激光器切割通常需要用6kW激光器才能切割的32mm厚的低碳钢板.并已用于试生产。

此外,激光切割机的加工尺寸范围也在不断扩大,目前生产最大激光切割机的机宽可达5.4m,长达6m。

这都说明了厚板、大尺寸激光切割技术正在逐渐提高。

3.三维立体多轴数控激光切割机

为了满足汽车、航空等工业的立体工件切割的需要,目前已发展了各种各样的5轴或6轴三维激光切割机,其最大加工工件尺寸可达3500mmx1200mm,数控轴数达到9轴,加工速度快,精度高,在6.2m范围内加工误差仅在0.1mm之内。

在先进国家的汽车生产线上,YAG激光切割机器人的应用愈来愈多。

目前,三维激光切割机正向高效率、高精度、多功能和高适应性方向发展,其应用范围将会愈来愈大。

三、激光切割技术发展前沿

自1960年红宝石激光器问世以来,激光加工技术至今已发展到第三个时期了。

为了实现上述技术的持续发展,在2l世纪初,激光切割需要研究、开发和解决的主要问题如下。

1.激光器的改进。

包括2kW级以上CO。

激光器光束模式的改善、YAG激光束发散角的减小和超小型大功率气体激光器的开发等。

2.光束传导系统功能部件的研究。

提高大功率激光光束传递和聚焦光路系统的可靠性及性能,包括大功率光路系统中热变形补偿及其监测系统的研究、光轴的自动调节系统及防反射光光学系统的开发和YAG光导纤维传送系统的小型化及消除象差等问题的解决。

采用补偿控制等方法使切割工作台超高速化、高精度化,提高激光切割机器人的移动速度和精度,NC控制计算、处理的高速化等。

3.切割软件的功能改善及激光切割T艺控制。

利用CAD/CAM.研制高速自动示教编程系统,以缩短三维立体激光切割机的编程时间。

开发快速的、空间的高分辨率传感器及其监测系统等,建立适应性控制。

四、数控激光切割机技术发展目标

1.高速、高精度激光切割机及切割工艺

我国的数控激光切割机生产,经过近的发展已取得了很大成就。

但与国外先进产品相比,还有较大差距,主要表现在切割机的运行速度低,动态精度差,配套功能不够,切割工艺参数不完善和切割断面质量不易保证等。

为了进一步提高产品质量和生产率,必须生产出新型的高速、高精度的激光切割机,以满足国内日益增长的生产需要,数控激光割机应具备专用切割工艺参数,配有激光专用自动编程系统及自动排料、套料系统,减少编程时间,提高板材利用率。

数控激光切割机如安装交换工作台,则可以大大提高生产率,充分利用激光能源,降低生产成本。

2.厚板激光切割技术及其设备

由于大功率CO2激光器光束模式的改进和激光切割技术进步,使厚板激光切割技术的应用逐渐增加,同时由于切割工艺采用CNC控制激光切割精度高,因此,用激光切割代替等离子、氧乙炔为主的中厚板切割的趋势正迅速增长,激光切割正从轻工业的`钣金加工业向建筑机械、桥梁、造船等重工业方向发展。

3.三维高精度大型数控激光切割机及其切割

工艺技术三维数控激光切割机主要应用于汽车制造、航空、建筑及难以加工的大型立体钣金件。

其主要特点是:床身刚性好、加工范围大;龙门式结构能实现高速、高精度的切割;三维激光切割头不仅能沿X、Y、Z轴作直线运动,且能进行C轴旋转.数控系统采用5轴或6轴联动系统,具有空间立体编程简单、操作方便和可靠性高的特点。

目前国内企业对三维激光切割机已经有需求,随着市场和经济的快速发展,在汽车、航空、机车及工程机械等行业对三维激光切割机的需求将会不断增大,因此,开发出性能好、工作可靠、使用方便的三维激光切割机,将使我国激光切割机的水平大大提高一步。

五、总结

随着装备制造业的快速发展,我国数控激光切割成套设备已进入快速增长期,年增长率达50%以上。

应用行业包括:汽车、船舶、航空、核工业、机械制造、钢铁、纺织、石油、激光加工中心等。

在全国激光加工学术年会上,专家们认为:到“十一五”末期,我国每年至少需要1500多台套高功率数控激光切割机,到“十二五”末期,我国高功率数控激光切割机市场需求量将达到10000台套,其中除了通用的激光切割机之外,对高速高精度激光切割机、大幅面厚板激光切割机、三维立体数控激光切割机、航天航空用有色金属激光器切割机等高性能激光切割系统的需求也与日俱增。

参考文献

篇3:传感器原理与检测技术考试题

传感器原理与检测技术考试题

一、单项选择题(每小题2分,共40分)

1.属于传感器动态特性指标的是( )

A.迟滞 B.过冲量 C.稳定性 D.线性度

2.传感器能感知的输入变化量越小, 表示传感器的( )

A.线性度越好 B.迟滞越小

C.重复性越好 D.分辨力越高

3.下列测力传感器中,属于发电型测力传感器的是( )

A.自感式传感器 B.磁电感应式传感器

C.电容式传感器 D.应变式传感器

4.下列被测物理量适合于使用红外传感器进行测量的是( )

A.压力 B.力矩 C.温度 D.厚度

5.属于传感器动态特性指标的是( )

A.重复性 B.线性度 C.灵敏度 D.固有频率

6.按照工作原理分类,固体图象式传感器属于( )

A.光电式传感器 B.电容式传感器

C.压电式传感器 D.磁电式传感器

7.测量范围大的电容式位移传感器的类型为( )

A.变极板面积型 B.变极距型

C.变介质型 D.容栅型

8.利用相邻双臂桥检测的应变式传感器,为使其灵敏度高、非线性误差小(

A.两个桥臂都应当用大电阻值工作应变片

B.两个桥臂都应当用两个工作应变片串联

C.两个桥臂应当分别用应变量变化相反的工作应变片

D.两个桥臂应当分别用应变量变化相同的工作应变片

9.影响压电式加速度传感器低频响应能力的是( )

A.电缆的安装与固定方式 B.电缆的长度

C.前置放大器的输出阻抗 D.前置放大器的输入阻抗

10.固体半导体摄像元件CCD是一种( )

A.PN结光电二极管电路 B.PNP型晶体管集成电路

C.MOS型晶体管开关集成电路 D.NPN型晶体管集成电路

11.差动螺线管式电感传感器配用的测量电路有( )。

A.直流电桥 B.变压器式交流电桥

C.差动相敏检波电路 D.运算放大电路

12、在以下几种传感器当中( )属于自发电型传感器。

A、电容式 B、电阻式 C、热电偶 D、电感式

13、( )的数值越大,热电偶的输出热电势就越大。

A、热端直径 B、热电极的电导率

C、热端和冷端的温度 D、热端和冷端的`温差

14、热电阻测量转换电路采用三线制是为了( )

A、提高测量灵敏度 B、减小引线电阻的影响

C、减小非线性误差 D、提高电磁兼容性

15、汽车衡所用的测力弹性敏感元件是( )。

A、实心轴 B、弹簧管 C、悬臂梁 D、圆环

16、在热电偶测温回路中经常使用补偿导线的最主要的目的是( ) ) 。

A、补偿热电偶冷端热电势的损失 B、起冷端温度补偿作用

C、将热电偶冷端延长到远离高温区的地方 D、提高灵敏度

17、以下四种传感器中,属于四端元件的是 )。

A、霍尔元件 B、压电晶体 C、应变片 D、热敏电阻

18、下列( )不能用做加速度检测传感器。

A、电容式 B、压电式 C、电感式 D、热电偶

19、将超声波(机械振动波)转换成电信号是利用压电材料的( )。

A、应变效应 B、电涡流效应 C、压电效应 D、逆压电效应

20、在实验室中测量金属的熔点时,冷端温度补偿采用( )。

A、冰浴法 B、仪表机械零点调整法 C、计算修正法 D、电桥法

二、填空(每题2分,共20分)

1.传感器的灵敏度是指稳态标准条件下,输出 的变化量 与输入 的变化量 的比值。对线性传感器来说,其灵敏度是 输出比输入 。

2.用弹性元件和电阻应变片及一些附件可以组成应变片传感器,按用途划分用应变式 测力 传感器、应变式 加速度 传感器等(任填两个)。

3.采用热电阻作为测量温度的元件是将 温度 的测量转换为 电阻 的测量。

4、已知某铜热电阻在0℃时的阻值为5 0Ω,则其分度号是 CU50 ,对于镍铬-镍硅热电偶其正极是 镍铬 。

5.空气介质变隙式电容传感器中,提高灵敏度和减少非线性误差是矛盾的,为此实际中大都采用 差动 式电容传感器

6.由光电管的光谱特性看出,检测不同颜色的光需要选用 阴极材料 不同的光电管,以便利用光谱特性 的灵敏 的区段。

7.电容式压力传感器是变 极板间距离 型的。

8、传感器由 敏感元件 、转换元件 、测量电路 三部分组成。

9、在压电晶片的机械轴上施加力,其电荷产生在 电轴 。

10、霍尔元件采用恒流源激励是为了 克服霍尔片输入电阻随温度的变化 。

三、问答题(本大题共4小题,每小题2.5分,共10分)

1. 简述传感器定义。

2. 色谱分析仪由那几部分够成?

3. 简述电磁流量仪组成及特点?

4. 测量误差按规律可分为那三种误差?

四、已知对某一温度的10次测量值分别为(单位℃):

75.01 75.04 75.07 75.00 75.03

75.09 75.06 75.06 75.02 75.08

求测量列的算术平均值、均方根误差及算术平均值的标准偏差。(10分)

五、根据你所学的传感器相关知识,请分别列出下列物理量可以使用什么传感器来测量?(本题10分)

1、加速度;2、温度; 3、工件尺寸;4、压力;5、流量

六、推导差压式流量计的流量公式,并解释每一项的意义。(10分)

篇4:激光与空间技术

激光技术 ――(一)什么是激光与激光技术 ――激光,是一种自然界原本不存在的,因受激而发出的具有方向性好、亮度高、单色性好和相干性好等特性的光。物理学家把产生激光的机理溯源到19爱因斯坦解释黑体辐射定律时提出的假说,即光的吸收和发射可经由受激吸收、受激辐射和自发辐射三种基本过程。众所周知,任何一种光源的发光都与其物质内部粒子的运动状态有关。当处于低能级上的粒子(原子、分子或离子)吸收了适当频率外来能量(光)被激发而跃迁到相应的高能级上(受激吸收)后,总是力图跃迁到较低的能级去,同时将多余的能量以光子形式释放出来。如果光是在没有外来光子作用下自发地释放出来的(自发辐射),此时被释放的光即为普通的光(如电灯、霓虹灯等),其特点是光的`频率大小、方向和步调都很不一致。但如果是在外来光子直接作用下由高能级向低能级跃迁时将多余的能量以光子形式释放出来(受激辐射),被释放的光子则与外来的入射光子在频率、位相、传播方向等方面完全一致,这就意味着外来光得到了加强,我们称之为光放大。显然,如果通过受激吸收,使处于高能级的粒子数比处于低能级的越多(粒子数反转),这种光的放大现象就越明显,这时就有可能形成激光了。 ――激光之所以被誉为神奇的光,是因为它有普通光所完全不具备的四大特性。 ――1.方向性好 ――普通光源(太阳、白炽灯或荧光灯)向四面八方发光,而激光的发光方向可以限制在小于几个毫弧度立体角内(图8-9),这就使得在照射方向上的照度提高千万倍。激光准直、导向和测距就是利用方向性好这一特性。 ――2.亮度高 ――激光是当代最亮的光源,只有氢弹爆炸瞬间强烈的闪光才能与它相比拟。太阳光亮度大约是103瓦/(厘米2.球面度),而一台大功率激光器的输出光亮度经太阳光高出7~14个数量级。这样,尽管激光的总能量并不一定很大,但由于能量高度集中,很容易在某一微小点处产生高压和几万摄氏度甚至几百万摄氏度高温。激光打孔、切割、焊接和激光外科手术就是利用了这一特性。 ――3.单色性好 ――光是一种电磁波。光的颜色取决于它的波长。普通光源发出的光通常包含着各种波长,是各种颜色光的混合。太阳光包含红、登、黄、绿、青、蓝、紫七种颜色的可见光及红外光、紫外光等不可见光。而某种激光的波长,只集中在十分窄的光谱波段或频率范围内。如氦氖激光的波长为632.8纳米,其波长变化范围不到万分之一纳米。由于激光的单色性好,为精密度仪器测量和激励某些化学反应等科学实验提供了极为有利的手段。 ――4.相干性好 ――干涉是波动现象的一种属性。基于激光具有高方向性和高单色性的特性,它必然相干性极好。激光的这一特性使全息照相成为现实。 ――所谓激光技术,就是探索开发各种产生激光的方法以及探索应用激光的这些特性为人类造福的技术的总称。自1960年美国研制成功世界上第一台红宝石激光器,我国也于1961年研制成功国产首台红宝石激光器以来,激光技术被认为是20世纪继量子物理学、无线电技术、原子能技术、半导体技术、电子计算机技术之后的又一重大科学技术新成就。30多年来,激光技术得到突飞猛进的发展,不仅研制了各个特色的多种多样的激光器,而且激光应用领域不断拓展,并形成了激光唱盘唱机、激光医疗、激光加工、激光全息照相、激光照排印刷、激光打印以及激光武器等一系列新兴产业。激光技术的飞速发展,使其成为当今新技术革命的“带头技术”之一。 ――(二)各式各样的激光器 ――在光源中,实现能级粒子数反转是实现光放大的前提,也就是产生激光的先决条件。要实现粒子数反转,需

篇5:蓝绿光波段激光技术与材料的研究进展

蓝绿光波段激光技术与材料的研究进展

本文结合作者自己的研究工作,综述了蓝绿光波段激光技术与材料的研究进展,从基本原理到实际问题,从历史进程到最新成就,总结了该领域内近的主要动态和成果,内容包括倍频技术与倍频晶体、波导倍频技术与材料、上转换技术与材料及半导体激光技术与材料等,文中同时给出了80篇参考文献.

作 者:阮永丰 许强 林林  作者单位:天津大学理学院物理系,天津,300072 刊 名:人工晶体学报  ISTIC EI PKU英文刊名:JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS 年,卷(期): 31(3) 分类号:O799 关键词:蓝绿激光   激光技术   激光材料   进展   回顾  

篇6:微机原理与接口技术课程设计心得

初学《微机原理》时,感觉摸不着头绪。面对着众多的术语、概念及原理性的问题不知道该如何下手。在了解课程的特点后,我发现,应该以微机的整机概念为突破口,在如何建立整体概念上下功夫。可以通过学习一个模型机的组成和指令执行的过程,了解和熟悉计算机的结构、特点和工作过程。

《微机原理》课程有许多新名词、新专业术语。透彻理解这些名词、术语的意思,为今后深入学习打下基础。一个新的名词从首次接触到理解和应用,需要一个反复的过程。而在众多概念中,真正关键的并不是很多。比如“中断”概念,既是重点又是难点,如果不懂中断技术,就不能算是搞懂了微机原理。在学习中凡是遇到这种情况,绝对不轻易放过,要力求真正弄懂,搞懂一个重点,将使一大串概念迎刃而解。学习过程中,我发现许多概念很相近,为了更好地掌握,将一些容易混淆的概念集中在一起进行分析,比较它们之间的异同点。

“微机原理与系统设计”作为电子信息类本科生教学的主要基础课之一,课程紧密结合电子信息类的专业特点,围绕微型计算机原理和应用主题,以Intelx86CPU为主线,系统介绍微型计算机的基本知识,基本组成,体系结构和工作模式,从而使学生能较清楚地了解微机的结构与工作流程,建立起系统的概念。

这次微机原理课程设计历时两个星期,在整整两星期的日子里,可以说得是苦多于甜,但是可以学到很多很多的的东西,同时不仅可以巩固了以前所学过的知识,而且学到了很多在书本上所没有学到过的知识。以前在上课的时候,老师经常强调在写一个程序的时候,一定要事先把程序原理方框图化出来,但是我开始总觉得这样做没必要,很浪费时间。但是,这次课程设计完全改变了我以前的那种错误的认识,以前我接触的那些程序都是很短、很基础的,但是在课程设计中碰到的那些需要很多代码才能完成的任务,画程序方框图是很有必要的。因为通过程序方框图,在做设计的过程中,我们每一步要做什么,每一步要完成什么任务都有一个很清楚的思路,而且在程序测试的过程中也有利于查错。其次,以前对于编程工具的使用还处于一知半解的状态上,但是经过一段上机的实践,对于怎么去排错、查错,怎么去看每一步的运行结果,怎么去了解每个寄存器的内容以确保程序的正确性上都有了很大程度的提高。

通过这次课程设计使我懂得了理论与实际相结合是很重要的,只有理论知识是远远不够的,只有把所学的理论知识与实践相结合起来,从理论中得出结论,才能真正为社会服务,从而提高自己的实际动手能力和独立思考的能力。在设计的过程中遇到问题,可以说得是困难重重,这毕竟第一次做的,难免会遇到过各种各样的问题,同时在设计的过程中发现了自己的不足之处,对以前所学过的知识理解得不够深刻,掌握得不够牢固。

这次课程设计终于顺利完成了,在设计中遇到了很多编程问题,最后在王老师的辛勤指导下,终于游逆而解。同时,在王老师的身上我学得到很多实用的知识,在次我表示感谢!同时,对给过我帮助的所有同学和各位指导老师再次表示忠心的感谢!

篇7:微机原理与接口技术课程设计心得

本学期的微机原理和接口技术及其课程设计都已经结束。在这个过程中,我们有所付出,也有所回报,让我感受颇多。

对于《微机原理与接口技术》这门课程而言,初学时,感觉摸不着头绪。面对着众多的术语、概念及原理性的问题不知道该如何下手。在了解课程的特点后,我发现,应该以微机的整机概念为突破口,在如何建立整体概念上下功夫。“麻雀虽小,五脏俱全”,可以通过学习一个模型机的组成和指令执行的过程,了解和熟悉计算机的结构、特点和工作过程。《微机原理与接口技术》课程有许多新名词、新专业术语。透彻理解这些名词、术语的意思,为今后深入学习打下基础。一个新的名词从首次接触到理解和应用,需要一个反复的过程。而在众多概念中,真正关键的并不是很多。比如“中断”概念,既是重点又是难点,如果不懂中断技术,就不能算是搞懂了微机原理。在学习中凡是遇到这种情况,绝对不轻易放过,要力求真正弄懂,搞懂一个重点,将使一大串概念迎刃而解。学习过程中,我发现许多概念很相近,为了更好地掌握,将一些容易混淆的概念集中在一起进行分析,比较它们之间的.异同点。比如:微机原理中,引入了计算机由五大部分组成这一概念;从中央处理器引出微处理器的定义;在引出微型计算机定义时,强调输入/输出接口的重要性;在引出微型计算机系统的定义时,强调计算机软件与计算机硬件的相辅相成的关系。微处理器是微型计算机的重要组成部分,它与微型计算机、微型计算机系统是完全不同的概念。

微处理器、微型计算机和微型计算机系统在微机中,最基础的语言是汇编语言。汇编语言是一个最基础最古老的计算机语言。语言总是越基础越重要,在重大的编程项目中应用最广泛。就我的个人理解,汇编是对寄存的地址以及数据单元进行最直接的修改。而在某些时候,这种方法是最有效,最可靠的。比如,在当今的战争中,首先就是运用这方面的知识来修改地方的系统程序。让地方的卫星偏离轨道,从而不能发现目标。其威力可见一斑。

然而,事物总有两面性,有优点自然缺点也不少。其中,最重要的一点就是,汇编语言很复杂,对某个数据进行修改时,本来很简单的一个操作会用比较烦琐的语言来解决,而这些语言本身在执行和操作的过程中,占有大量的时间和成本。在一些讲求效率的场合,并不可取。汇编语言对学习其他计算机起到一个比较、对照、参考的促进作用。学习事物总是从最简单基础的开始。那么学习高级语言也当然应当从汇编开始。学习汇编语言实际上是培养了学习计算机语言的能力和素养。个人认为,学习汇编语言对学习其他语言很有促进作用。汇编语言在本学期微机学习中有核心地位。本学期微机原理课程内容繁多,还学习了可编程的计数/定时的8253,可编程的外围接口芯片8255A等。学的都是芯片逻辑器件,而在名字前都标有“可编程”,其核心作用不可低估。我认为,在学习中要考虑到“学以致用”,因此,在接下来我们又安排了微机原理与接口技术的课程设计。

经过本次微机课题的设计与研究,我们深入的学习了除课本以外的很多微机附件的内容,掌握了很多实验室操作技能。我们在实际设计中遇到很多问题,但结合所学知识以及参考资料的帮助,不断地尝试,设计了一种能够解决实际问题的系统。同时也加深了我们对于现实生活中,实际的嵌入式操作系统的原理的理解。

在实际设计过程中,我们遇到了诸多设计的问题。例仿真系统中某些芯片没有,这一问题主要是因为我们所设计的功能诸多,刚开始对于这一设计在硬件方面设计不是非常的合理,后来通过使用所用仿真软件的绘画功能,新增加了一个芯片便解决了所有的按键和现实问题。

在程序设计中,我们更加深入了解了8086的使用与本质。为了能设计成功,我们查阅了各种关于其硬件连接和软件设计的资料,同时也发现了理论资料与实践上的区别,通过多次尝试,成功完成了硬件和软件的设计。在这次课题设计过程中,我们合理的分工,适宜的规划进度的进展,不仅仅按时完成了预先设计的内容,而且学到了很多书本上没有的知识。

在这一过程中,我们充分发挥我们的主观能动性,想象创造性,攻克了很多之前都没有想过的难关,真的受益匪浅。这次设计不仅仅耗时耗力,而且还要整天对着电脑进行仿真且不停的调试、修改,这次课程设计对我们理论和实验都有很大的提升,我想这些对于我们今后的学习生活都有很重要的意义,这将是我们在程序设计以及大学学习过程中的宝贵经验和财富。

篇8:有机农业标准与规范(有机农业原理和技术)

第五章

有机产品认证

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第三章

有机农业标准与规范

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有机农业必须按照有机标准进行生产并认可,有机标准 规定有机产品生产过程中禁止或允许的各种要求。它是由田 间生产到加工成最终消费产品的一个完整的、基础性的指导 法规,也是有机农业的根本法则,要求在农业生产中必须遵

守的技术性文件。

第一节 第二节 第三节 第四节

标准的概念和作用 标准制定的原则与依据 标准的构成 有机农业法规与标准

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第一节

1、标准的概念

标准的概念和作用

一、标准和标准化的概念

指在一定范围内为获得最佳秩序,对活动或其结果规定 共 同 的 和 重 复 使 用 的 规 则 、指 导 原 则 或 特 性 的 文 件 (GB/ T3935.1-1996)。 它是衡量事物的准则,是一种技术规范。用于指导人们 如何使生产的产品符合要求,在某项生产活动中的工作程序 、工作要求和工作方法。指出哪些是正确的, 哪些是允许的

, 哪些是不允许的和禁止的。

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标准目的是避免由于不科学的技术行为所造成的不良后果 ,防止由于违反自然规律而造成不可挽回的损失,甚至灾难性 后果。

2、标准的分类(了解)

1)按照标准发布的组织机构和适用范围,分为:国际标 准、区域标准、国家标准、行业标准、地方标准和企业标准。 2)按照标准执行的强制程度,分为:强制性标准和推荐

性标准。

3)按照标准规定的对象,分为:技术标准、管理标准、

工作标准、服务标准、产品标准、建设标准和质量标准等。

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3、标准化的概念

指在一定范围内为获得最佳秩序,对实际或潜在的问题制 定共同的和重复使用规则的活动。 标准化的本质是统一 在标准化工作中制定标准是基础 贯彻标准是核心

标准化的显著特点是改进产品、过程和服务的实用性,防

止技术壁垒,便于技术合作。

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4、有机标准的概念

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有机标准是对有机生产、加工和贸易的基本要求,是指导 有机生产和加工行为的技术规范。 有机认证申请者需与认证机构签订协议,保证执行有机标 准,并接受有机认证检查员的认证检查。 认证机构给符合标准的农 场、加工厂和贸易单位颁发有

机认证证书,并授权其在有机

产品上使用相应的有机产品标志。

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二、有机食品

标准的作用

制定有机标准的指导思想是有利于生态环境的可持续发 展和促进有机食品的国际贸易。

1、是进行有机食品质量认证和质量控制体系的基础

认证分为: 安全认证

合格认证(即质量认证): 国 际 标 准 化 组 织(ISO)定义:指由可以充分信任的第三方证实某一经鉴定 的产品或服务符合特定标准或技术规范的活动。

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我国的《产品质量认证管理条例》第二条规定“质量认

证”: 指依据产品标准和相应技术要求,经认证机构确认并

通过颁发认证证书和认证标志来证明某一产品符合相应标准

和技术要求的活动。 质量体系认证国际规范称为质量体系注册:指由可以充 分信任的第三方证实某一经鉴定产品的生产企业,其生产技 术和管理水平符合特定标准的活动。 以上说明,无论质量认证或是质量体系认证都必须有适 宜的标准依据,否则就不具备开展认证活动的基本条件。

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2、是进行有机食品生产活动的技术和行为规范

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有机农业标准不仅对有机生产过程、技术要求、生产资料输

入等进行了具体规定,而且是有机食品生产者、管理者的行为规

范,是评价、监督和纠正生产者、管理者技术行为的尺度,具有 规范有机食品生产活动的功能。

3、是推广可持续发展的生产技术,提高有机食品生产 水平的指导性技术文件

有机食品标准不仅要求产品质量达到有机食品产品标准,而

且为产品达标提供了先进的生产方式和生产技术指标。

如:在作物生产上,根据土壤肥力状况,提供出了有机肥、微生物 肥、无机(矿质)肥和其他肥料配合施用的比例、数量和方法; 为保证食品加工生产不污染环境,提出“三废”排放处理措施,从 而促使有机食品生产者应用先进技术,提高生产技术水平。

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4、是维护有机食品生产者和消费者利益,保证产品质量 和规范经营行为的技术与法律依据

有机食品标准作为质量认证依据,对接受认证的生产企业 来说,属强制执行标准,企业生产的有机产品和采用的生产技 术都必须符合有机食品标准要求。 当消费者对某企业生产的有机产品提出异议或依法起诉时 , 有机食品标准就成为裁决的合法技术依据。 同时,也是国家工商行政管理部门打击假冒有机产品的行

为依据,保护有机食品生产者和消费者的利益。

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5、是提高我国农产品质量,增强国际市场竞争力,促进 产品出口创汇的技术目标依据

我国有机食品标准是参照国际标准和国外先进标准制定的 。既要符合国情,又要具有国际先进水平,达到国际间互认。 有机农业

生产对我国大多数食品生产企业来说,要完全达 到有机食品标准有一定难度,但只要积极转变观念,进行技术 改造,改善经营管理水平,提高企业素质,许多企业是完全可 能够达到的, 生产出的产品质量也能够符合国际市场的要求。

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第二节

一、原则

标准制定的原则与依据

总体原则:最大限度地促进生物循环,合理配置和利用自

然资源,减少经济行为对生态环境的不良影响,提高产品质量 ,维护、改善人类生存和发展环境。即从“发展经济和保护生 态环境”两方面规范有机食品生产者行为。 ? 1、生产优质、营养、对人畜安全的食品和饲料,保证获得

一定产量和经济效益,兼顾生产者和消费者双方的利益;

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?

2、保证生产地域内环境质量不断提高(包括保持和提高土

壤肥力),有利于水土保持,保证水资源和相关生物不遭受损 害,有利于保持生物循环和生物多样性; ? 3、有利于节省资源(包括要求使用可更新资源、可自然降

解和回收利用材料),减少长途运输,避免过度包装等; ? 4、有利于先进科学技术的应用,保证及时利用最新科技成

果为有机食品发展服务;

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?

5、有关标准和技术要求能够被验证。要求对标准的检验和

评价方法必须是国际、国家标准或技术上能够保证重复性的试 验方法; ? 6、有机食品标准的综合技术指标不能低于国际标准和国外

先进标准的水平。同时,生产技术标准要有很强的可操作性, 易被生产者接受; ? 7、严格控制使用基因工程技术。

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二、标准制定的依据

1、通行做法

国际有机农业运动联合会(IFOAM)制定的有机农业生产和

加工标准是世界各国有机食品标准制定的主要依据。

2、我国产品及标准现状 目前我国常规产品质量相对较低,且相当部分产品质量水平不符合国内相应的产品质量标准。其次我国的产品质量标准 水平本来就低于国际标准和国外先进标准,导致我国产品出口 在世界贸易中处于劣势。

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3、标准制定的依据

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1)要想提高产品质量,就必须有一个高水平的质量标准, 要有一套保证达到质量标准的质量管理体系; 2)标准和质量是商品生产和流通的两个最基本和最活跃的 因素,而国际标准则是打开国际市场的关键,产品要靠其执行 相应的标准获取通往市场的“通行证”; 3)我国的有机食品发展起步较晚,采用国际标准和国外先 进标准是我国一项重要的经济技术政策。 因此,我国的有机食品认证机构应根据IFOAM制定的有机 农业生产和加工基本标

准,以我国国家标准、法规、条例为基

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础,参照欧盟有机农业生产条例(EECNo.2029/ 91)、国际有机

作物改良协会(简称OCIA)以及其他国家(德国、美国、英国、瑞

典、澳大利亚、新西兰等)有机农业协会和组织的标准和规定,

结合我国农业生产和食品行业的实际情况,制定既符合我国国

情,又与国际有机农业接轨的有机食品标准。

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第三节

标准的构成

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有机食品标准以全程质量控制为核心,由6部分构成。

一、农作物生产

一)基本概念 1、认证范围 申请认证的单元可以是整个农场或农场中的部分田块。 但无论是哪一种形式均必须是完整的生产区。如果农场内 同时有常规和有机生产区,农场经营者必须指定专人经营和管 理用于有机生产的土地,并要制定计划将常规生产土地逐步转 换成有机生产,并将计划交认证机构备案。

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目前在发展中国家有一种较为普遍的有机经营模式――小

农户组成的有机农场:指在一定区域内的土地由多个农户经营

,这些农户都愿意从事有机生产,并且建立了严密的组织管理 体系,该区域内的土地也可被看作是独立的有机农场。 2、认证对象 有机认证的对象是地块。 如果地块环境条件符合有机生产要求,且作物生产和田间 管理满足有机作物生长要求,则该地块上生产的所有作物均可

以作为有机作物。

但生产者必须采取有效措施区分有机转换中的作物和已获 得有机颁证地块上的作物。

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3、转换期 1)转换期限

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由常规生产系统向有机生产转换通常需要2~3年时间。但生 产者在转换期期间必须完全按有机生产要求操作。经一年有机 转换后的田块中生长的作物,可作为有机转换作物。 2)转换期开始时间

从申请认证机构认证之日起计算。

如果申请者在申请前已经在当地主管部门、环保部门或认 证机构分中心的监督下进行有机生产(监督部门必须与申请者没 有利益冲突),并能提供相应的书面证明材料和土地利用的历史 资料,经认证机构核准后,转换期的开始时间可以从生产者实 际开始有机生产的日期算起。

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对新开荒地、撂荒多年未利用的农用土地或一直按传统农

业方式耕种的土地,也要经过至少一年的转换期才有可能获得

认证机构颁证。

特别注意: 已通过有机认证的农场一旦回到常规生产方式

,则需要重新经过有机转换后才有可能再次获得有机颁证。

4、缓冲隔离带

如果在农场邻近田块有喷洒禁用物质或其他污染物存在,

则在有机种植的地块和该邻近地块之间必须设置足够的障碍物

,或在有机和常规作物之间设置足够的过渡带,以保证有机生

产田块不受污染。

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5、生产和管理计划

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为保持和改善土壤肥力,减少病虫害和杂草的危害,有机 生产者应根据当地的生产情况,制定并实施非多年生作物的轮 作计划。在轮作计划中,应包括豆科作物。在实施轮作计划时 ,生产者可以根据现实情况作适当调整。

有机生产者应制定和实施切实可行的土地培肥和有效的农

场生态保护计划,包括种植树木和草皮,控制水土流失,建立 天敌栖息地和保护带,保护生物多样性等。 6、内部质量保证和控制方案 有机生产者应做好详细的生产和销售记录,包括有机农场 田块和从业人员购买或使用农场内外所有物质的来源和数量, 以及作物种植管理、收获、加工和销售的全过程记录。

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二)生产管理

1、土壤培肥 现代农业:使用化学肥料直接为作物提供养分。

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有机农业理论认为:土壤是活的生命系统,施肥首先是 培肥土壤,然后通过土壤W作用供给作物营养。 ∴有机农业要求利用有机肥和合理的轮作来培肥土壤。 根据有机生产“相对封闭的养分循环系统”的原理: 一是:有机肥应尽可能地来自系统本身,并尽量将系统 内的所有有机物质归还土壤; 其次:在轮作计划中必须包括豆科绿肥在内,作为补充 氮源的重要手段;

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三是:有机生产过程中要尽可能减少土壤养分流失,提

高养分利用率。

培肥目的:增加和保持土壤良好肥力和其中的生物活性。

注意:1)在有机生产中,许多物质的投入是受限制的。

主要考虑,如污染状况、营养失衡和自然资源枯竭等因素。

2)培肥计划要尽量减少营养物质损失,防止重金 属和其他污染物质的积累。

3)对补充矿物肥料,只有在其他土壤培肥措施已

达到最优化时,才允许使用,而且应以天然矿物成分的形态 使用,不允许通过化学处理来提高其可溶性。

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一般指除传统的N、P、K等肥 料以外的,只需简单的加工粉碎后,

即可用作肥料、土壤改良剂及肥料添

加剂等,并可直接供农业所利用的各 种矿物或岩石资源。

矿物肥料

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2、病虫杂草管理

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理念:本着尊重自然的原则,倡导综合应用生态学方法

和健康的作物栽培措施控制病虫害。

以农艺措施为主,辅以适当的生物、物理防治技术,必

要时可适当利用一些植物性农药和允许使用的矿物源农药防 病治虫。

指利用植物所含的稳定的有效成分(如生物碱、糖苷、毒蛋白

质、单宁、树脂、有机酸、酯等高生理活性物质),按一定的方

法 对受体植物进行使用后,使其免遭或减轻病、虫、杂草等有害生物 为害的植物源制剂。是目前国内外备受重视的第三代农源之一。

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矿物源农药

硫酸铜

磷化锌 磷化铝

石硫合剂

硫磺

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一般一个良好的有机生产系统是不会有严重病虫害问题的 。在自然生态系统中,病虫常常只侵袭系统中的弱者。对健康 、良好的植物如果给予合适的土壤条件和平衡的养分供给,则

具有较强的抗病虫侵袭能力。

方法:有机生产系统,按照病 虫草害损失最小方式管理,提倡

病虫防治以预防为主。 措施: 重点是选用对环境适应性很好的抗病品种、平衡的培肥土壤

计划、高生物活性的肥沃土壤、适宜的轮作方式、间作和绿肥种植;以增 加生物多样性,保护和发展病虫害的天敌;允许使用农场内的动植物和微 生物制成的用于病虫草害管理的产品;允许使用物理方法控制病虫草害。

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3、种子选育

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一是所用种子和植物原料应获得有机认证,并能适应当 地的土壤和气候特点,对病虫害有抗性; 二是要充分考虑基因多样性,不允许使用任何基因工程 的种子、种苗、花粉等。 4、水土保持 一是采用可持续的方式对待土壤和水资源。有效防止水 土流失、土壤盐化、过量或不合理使用水资源以及防止地表 水和地下水污染。

二是限制焚烧秸秆,禁止开垦原始森林,禁止过度开发

和利用水资源,按规定载养适量的畜禽数,防止污染环境。

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5、多样化种植和轮作 多样性: 自然生态系统中的生物多样性

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作物品种多样性:包括豆科作物在内的多种作物轮作;

在一年中尽量种植不同类型的作物;采用根系深浅不同的作物

轮作,充分利用和提高土壤肥力的生物有效性。同时轮作也是病虫

害防治的一种有效措施。另外,要防止土壤裸露。

6、野生产品的采集

不应超过该生态系统可持续的生产量,也不应危害到动植物物 种的生存。 只有当收获的野生产品来自一个稳定的和可持续的生长环境, 并未受任何禁用物质影响时,该野生产品才能得到有机认证。同时

收集区域与常规农田和污染区域应保持一定的距离。

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二、动物饲养

一)管理技术

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应取决于农场动物的生理和个体行为的需要而定:许可动 物表现它们的基本行为需要,所有管理技术应以尊重动物,保 持动物健康与良好生活条件为导向。

1、畜群的大小:以不应影响动物的行为方式为准。群养动

物不能单个饲养。

2、生长环境:

①根据动物的行为需要,提供足够的自由活动空间、新鲜 空气和

自然光线,避免过度的阳光、温度、雨水和通风;

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②提供足够的淡水和饲料;

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③提供足够的躺卧和休息的空间,对一些需要垫圈的动物,应

使用自然材料垫圈。

3、饲养场地:所有有机动物都应在有机农场中出生和长

大,不应依赖于常规饲养系统。当买卖或交换牲畜时,最好在

有机农场之间进行。

二)动物品种

1、品种选择:选择能适应当地环境条件的品种;

2、饲养目标:不能违背动物的自然行为且应有利于动物的

健康。

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3、繁殖技术:采用自然方式。以能自然交配和分娩的品种 为基础,允许使用人工授精技术。 不允许实施的繁殖技术:①胚胎移植;

又称受精卵移植,俗称人工授胎或借腹怀 胎,指将雌性动物的早期胚胎,或者通过体外 受精及其他方式得到的胚胎,移植到同种的、生理状态相同的其他雌性动物体内,使之继续

发育为新个体的技术。

②激素处理和引产,除非作为治疗目的且在兽医的指导下 进行; ③遗传工程品种。

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三)动物营养

1、饲料来源 使用100%有机种植的高品质饲料喂养,所有饲料应来自 农场本身或本地区其他有机生产区。

2、喂养方式

采用动物可表现其自然取食行为和消化需要的方式供给食 物。并根据动物的营养需要平衡供给。 认证机构应制定有关饲料和饲料配料的标准。

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四)兽医

1、首要考虑是保持动物健康是减少动物疾病的重要措施。 2、动物生病和受伤时应及时给予治疗,应采用天然的药物和 方法。 3、当不能得到合理的替代 药物时,允许使用常规兽药。 但使用常规兽药时,药物降 解期至少应为法定时间的2倍。 4、禁止使用合成的生长促进 剂、用于刺激或抑制自然生长的合成物或激素。

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三、水产品生产

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包括淡水、半咸水和海水多种生物物种、多种形式的生产。 任何形式的养殖场,如泥塘、水箱和笼子(开放的和封闭 的系统)中各个阶段的肉食性、杂食性、草食性生物都包括在 标准之内。 1、有机转换

根据标准,要在一段时期里对全部生产进行转换,如果某

个生产单位不能全部立即进行有机转换,可以把各个部分完全 按标准的要求进行逐步转换。

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2、转换期 根据水生生物的生命周期、物种、环境因子以及养殖场过

去的废物、沉积物利用情况和水质状况,按有机认证机构要求

确定转换期的长短。 3、养殖场选择 要考虑维持水生环境和周围水生、陆生生态系统平衡,养 殖场与污染源和常规养殖场之间要保持适当的距离。水产养殖 的不利环境影

响应达到最小。

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4、捕捞区(位置)能被清楚地界定 规定的捕捞区应与有污染和常规养殖场之间应保持适当 的距离,以防常规水产养殖对其造成污染或有害影响。 对开放捕捞区内的野生和固有水生生物,如果生活环境不 受污染,并可稳定和持续的生产,其捕获的产品可认证为有机 水产品。 5、动物的饲养 按动物的自然行为进行养殖。 ①对引进的常规水生生物在有机体系中至少饲养超过2/3 的生命周期时间。

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②选择自然出生的繁殖方法。不采用高技术和高投入的 方法进行繁殖。但可使用认证机构允许使用不包含自然出生的 生产体系。如:鱼卵的孵化。 ③水产养殖的饵料要平衡,质量要好。要以自然摄食的 方式供给。

喂食的原则:以最小的投入使生物最快生长,且要损失

到环境中的量要最小。

对经有机认证的副产品和不适合人类直接消费的野生海

洋食物资源,应当用做饵料成分。 ④在捕捞时,应使水生生物受到的胁迫最小,捕捞行为不 应对自然水域的可持续性产生不利影响。

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6、病虫害控制 制定害虫防治计划,但应优先考虑使用预防措施。

1)预防措施

消灭害虫的栖息地;避免害虫进入的设施、物理和生物 法以及标准中规定的灭虫剂。 2)推荐处理方法 物理栅栏、声音、超声波、光和紫外光、捕虫器、温度控 制、大气控制及硅藻土法。但禁止使用辐射法杀虫。

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四、食品加工和处理

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有机食品在生产、加工、贮存和运输中必须杜绝化学物质

的污染。其加工和处理过程要保持产品质量和产品完整。

一)成分、添加剂和加工配料

1、一般有机产品中100%的成分均应是认证的有机成分。

在有机原料成分质量不满意或数量不足的情况下,认证机

构可授权使用非有机物质,但须定期检查和评估,且这些物质 不应是基因工程技术所得的物质。 2、加工产品中可使用水和食盐,但不应使用矿物质(包括微量 元素)、维生素和类似的物质。

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3、在食品加工过程中可使用一些常用微生物和酶制物品,但

不可使用基因工程生产的微生物及其产品。 4、限制使用添加剂和加工配料。 二)加工方法 1、基本方法采用机械、物理和生物法;

2、在加工的每一道工序应保证有机成分的主要质量指标(不受

损害); 3、加工方法选择:本着尽量少用添加剂和加工配料的原则; 4、不允许使用辐照法。

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三)贮藏

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除在常温下贮藏外,以下特殊的贮藏条件是允许的:冷

却、冷冻、干燥、湿度调节等。乙烯气体可允许用于催

熟。 四)质量管理 在各生产、加工、贮存和运输环节都必须有完整的档案 记录(包括相应的票据),并建立跟踪审查体系。有机加工者必 须制定和实施有机加工内部质量保证及控制方案。 五、包装和标志 一)包装 1、包装工序对环境影响最小,避免不必要的包装,尽量 使用可回收和循环利用的包装物质。

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2、使用可生物降解、不污染食品的包装材料。

3、认证机构要确立减少包装材料对环境影响的方针。

二)标志 1、标志应清楚并准确标出有机产品的状况。经有机认证 的产品应视作“有机产品”或相似意义名称的'产品出售; 2、应注明产品生产和加工的法人或公司的名称和地址;

3、应给出间接影响产品质量的加工程序,说明产品中添加

剂及加工配料的所有成分;

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4、单一成分的产品满足所有标准要求的可标为“有机产

品”或相似意义名称的产品。对于成分(包括添加剂)不全来自

有机原料的混合产品,其所有原料应按照重量百分比的顺序在 产品标签中列出,并明确标出哪种原料是认证的有机原料、哪 种不是。且所有添加物应列出全称。

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六、社会公正性

是有机农业生产和加工的一个重要组成部分。

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1、应遵守国际劳工组织(ILO)有关劳动福利的全部规定

,所有雇员及其家庭有享受饮水、食物、住房、教育、交通和

健康服务的权利,要满足包括生育、疾病和退休等在内的社会

保障需要。

2、所有雇员不论其肤色、信仰及性别,只要从事同种工

作,都享有同等报酬并有均等就业机会和足够的劳动保护。

3、认证机构应确保有机生产者享有社会公正性方面的政

策。对于明显存在社会不公的生产不能给予有机认证。

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第四节

有机农业法规与标准

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一、国际有机农业法规与标准 有机农业标准是一种质量认证标准,目前国际上关

于有机农业和有机食品的法规和标准有三个层次:

1、联合国层次

2、国际性非政府性层次 3、国家层次 主要包括有:联合国食品法典委员会(CAC)、国 际有机农业运动联合会(IFOAM)、欧盟(EU)及美国 和日本等国际组织、地区和国家的标准。

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1、联合国食品法典委员会(CAC)

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CAC1991年制定的《有机食品生产、加工、标识和销售指 南》(以下简称指南)仅为食品法典的一部分,但成为各成员国 制定有机农业和有机食品标准的依据;也是WTO仲裁有机产 品国际贸易的法律依据,各成员国必须遵守的标准。该指南每 4年评估1次。 指南目的在于保护消费者免受欺诈、保护生产者,防止用

其它农产品代替有

机产品、确保有机生产的所有环节都受到检

查,为有机农业控制系统提供国际导则。同时为各国建立管理 自己的有机农业生产、市场和标志的国家体制具有指导作用。 CAC再分别于1999.6及2001.7通过了《有机植物和动物生 产指南》,在一些细节和标准覆盖面上做了具体规定。

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2、国际有机农业运动联合会(IFOAM)

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IFOAM1980年制定的《有机农业生产和加工的基本标准

》是由非政府组织制定的有机农业和有机食品标准,每3年修 订1次。该机构自1972年成立后,目前已有105多个国家750多 个会员组织,因此该标准具有广泛的民主性和代表性,其影响 很大,许多国家的有机农业标准都参考了该标准。 《基本标准》的内容涉及农产品生产的所有环节,但该标 准不能直接用于认证,它的制定为世界范围内的认证机构提供 一个制定国家或地区标准的框架,作为有机认证的参考依据, 各国可结合本国实际制定更为严格的标准。

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3、欧盟有机农业条例

该条例是欧盟于1991年6月24日出台,是对有机农业和 有机农产品的生产、加工、贸易、检查、认证以及物品使用 等全过程进行了具体规定。条例宗旨是保护真正的有机农业 生产商、加工商和交易商的利益,防止假冒产品,促进有机 农业的健康发展,建立严格的有序的有机生产体系。该条例

适用于所有成员国,并要求所有进口到欧盟的有机农产品生

产过程至少符合欧盟的有机农业标准。但欧盟各国根据该条

例制定了自己更为严格标准,所以该条例对世界其他国家的

有机农产品生产管理,特别是贸易产生了重大影响。

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4、美国有机农业条例与日本有机农产品标准

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美国1990年颁布《有机农产品生产法案》,并成立了 国家有机农业标准委员会,委员会分别由有机农产品生产、消费、贸易、管理、研究等不同领域代表组成。 1997年对标准进行修订并提交公众评论时收到27万条意 见,主要集中在转基因技术等方面,直到2002年10月开始正

式执行。

美国的有机农业和有机食品标准基本与欧盟类似,区

别在于美国把检查、认证等完整列入标准中。

日本2001年4月1日正式实施有机农业和有机食品标准

,其具体内容95%以上与欧盟标准相似。

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5、主要国际组织和国家标准比较

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国际上有机农业和有机食品法规与标准的内容基本 相似,世界各国在制定本国的有机农业和有机食品法规 与标准时,主要依据联合国食品法典委员会(CAC)的

《有机食品生产、加工、标识和销售指南》、国际有机

农业运动联合会(IFOAM)的《基本标准》和

欧盟的有

机农业条例。

1)国际有机农业和有机食品法规与标准的特点:

①强调有机农业的基本原则是可持续发展,有机食

品的生产、加工和贸易都要在可持续发展的指导原则下

进行;

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②强调有机农业是以保护自然和生态为 基础的生产方式,不提倡集约化的农业生产方式; ③强调有机农业禁止使用或基本上不使用化学合成 的肥料和农药,食品加工不使用化学合成的食品添加剂

,且有机食品的产品质量不一定比常规食品高;

④强调有机农业是全过程的控制,有机食品的认证 是对全过程的认证。 2)三个标准的比较

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项目

IFOAM基本标准

CAC食品法典

欧盟标准

民间的,是用于制定 官方的,是各个国 具体的生产标准,直接

作用

有机标准的标准,具 家或有关机构制定 用于欧盟范围内的有机 有很强的权威性,但 自己的法规或标准 认证和市场管理,具有 不能直接用于认证 指南 食品和非食品,包括 以食品为主 渔业和纺织业等 农场或农场单位上一个收获期以前 至少1年,多年生作物 至少2年,多年生作物至少3年 至少2年 排除 法律的效力 食品和非食品

范围 转 换 期 基因改 良产品

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项目

IFOAM基本标准

CAC食品法典

欧盟标准

仅向有关国家机构建议, 地形/生 而非强制性的(多样性 物多样 面积占有机管理土地一 性 定的比例)

仅仅是个建议

类似的投入清单,对新 类似的投入清单, 类似的投入清单,节 排除工厂化养殖的 约化养殖的畜禽粪便 施肥 投入品有明确的标准 畜禽粪便 不在其中

相当详细,作为国家标 作为国家标准 养殖业 准 的框架 非常详细,特别是家 禽

对新添加剂和加工助剂 标准不太详细,对 标准不太详细,对动 动物产品有非常严 物产品尚无清单 加工 有详细的标准和清单 格的清单 转换2年以后可以标识为有机。有机成分>95%,标全有机;70%, 标识 标识有机成分比例;<70%,只能在配料表中标明有机配料

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二、我国有机农业法规与标准 我国的有机农业食品起步较晚(20世纪90年代), 2003年以前,我国没有制定和实施有机产品认证国家标准 ,外国认证机构在我国开展认证工作时各自执行本国或本

地区的标准,这导致在认证过程中出现了一些混乱现象。

2003年国家认证认可监督委员会根据国务院指令接管

有机食品的监管权后,开始了《有机产品生产与加工认证

规范》的制定工作,该规范充分考虑既要符合国内实际情

况,又要做到与国际接轨的宗旨,并于2003年8月10日正

式发布。

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自2003年11月1

日起施行《中华人民共和

国认证认可条例》对外国在国内设立认证机构的相关问题

进行了具体的规定,这对保障我国境内有机食品认证工作

的健康、有序的发展具有重要意义。

自2003年开始,在我国尚无正式颁布强制性的有机食

品认证国家标准的情况下,国家认监委组织环保、农业、

质检、食品等行业专家从我国国情出发,充分借鉴国际和

国外标准的基础上起草制定了《有机食品国家标准》(

GB/T19630-2005),并于2005年4月1日起正式实施,标志 我国有机产品进入新的发展阶段。

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